光刻机（Mask Aligner) 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

光刻机的品牌很多，根据技术路线的不同可分为以下几类：高端投影光刻机可分为步进投影光刻机和扫描投影光刻机，分辨率通常在7纳米到几微米之间。高端光刻机号称是世界上最精密的仪器，世界上已经有1.2亿美元的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业的奇葩。它的制造难度如此之大，以至于世界上只有少数几家公司能制造它。外国品牌主要是荷兰ASML(德国镜头)、日本尼康(英特尔收购了尼康的高端光刻机)和日本佳能。位于中国上海的SMEE开发了具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成了一系列产品，并已在国内外初步销售。其他系列产品的研发正在进行中。生产线和研发中使用的低端光刻机是接近式和接触式光刻机，分辨率通常在几微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006和中国品牌。